Zirconium Oxide ZrO₂ |Hafnium Oxide HfO₂ 99.9%

Paglalarawan

Zirconium Oxide ZrO₂, o Zirconium Dioxide, halos hindi matutunaw sa tubig, at bahagyang natutunaw sa HCl at HNO₃, punto ng pagkatunaw 2700°C, density 5.85g/cm³, ay walang amoy na kristal na may mataas na punto ng pagkatunaw, mataas na resistivity, mataas na refractive index at mababang thermal expansion coefficient na mga katangian, na siyang mahalagang materyal na lumalaban sa mataas na temperatura, ceramic insulating materials, ceramic sunscreen at hilaw na materyales para sa mga artipisyal na hiyas.ZrO₂ay mga pangkalahatang kalakal na dapat itago sa malamig, tuyo at maaliwalas na lugar, panatilihing mahigpit na nakasara ang lalagyan at malayo sa malakas na alkali.Zirconium Oxide ZrO₂ay karaniwang ginagamit para sa paggawa ng metal zirconium at zirconium compounds, high frequency ceramics, abrasive materials, ceramic pigments, refractory material at optical glass.

Paghahatid

Zirconium Oxide o Zirconium Dioxide ZrO₂na may kadalisayan ng ZrO₂+HfO₂≥ 99.9% at Hafnium Oxide HfO₂na may kadalisayan ng HfO₂+ZrO₂≥99.9% sa Western Minmetals (SC) Corporation ay maaaring maihatid sa laki ng 60-150mesh powder, 25kg sa plastic bag na may karton na drum sa labas, o bilang customized na detalye.

Inquiry ngayon

Mga Detalye

Mga tag

Teknikal na Pagtutukoy

ZrO₂& HfO₂

Zirconium Oxide o Zirconium Dioxide ZrO₂ na may kadalisayan ng ZrO₂+HfO₂≥ 99.9% at Hafnium Oxide HfO₂na may kadalisayan ng HfO₂+ZrO₂≥99.9% sa Western Minmetals (SC) Corporation ay maaaring maihatid sa laki ng 60-150mesh powder, 25kg sa plastic bag na may karton na drum sa labas, o bilang customized na detalye.

Mga bagay	HfO₂	ZrO₂
Hitsura	Puting Pulbos	Puting Pulbos
Molekular na Timbang	210.49	123.22
Densidad	9.68 g/cm³	5.85 g/cm³
Temperatura ng pagkatunaw	2758 °C	2700 °C
Cas No.	12055-23-1	1314-23-4

Hindi.	item			Karaniwang Pagtutukoy
1	Kadalisayan			Karumihan (PCT Max bawat isa)	Sukat
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99.9%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/Th 0.005	60-150mesh
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99.9%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100 mesh
4	Pag-iimpake			25kgs sa plastic bag na may cardboard drum sa labas

Hafnium Oxide HfO₂, o Hafnium Dioxide, isang tambalan ng hafnium, HfO₂+ZrO₂≥99.9%, punto ng pagkatunaw 2758°C, density 9.68g/cm³, ay hindi matutunaw sa tubig, HCl at HNO₃, ngunit natutunaw sa H₂SO₄at HF.Hafnium oxide HfO₂ay isang ceramic na materyal na may malawak na band gap at mataas na dielectric constant.Hafnium Oxide HfO₂ay ang pinaka-malamang na palitan ang gate insulator silica ng metal oxide semiconductor field effect tube upang malutas ang problema sa limitasyon ng laki ng pag-unlad ng tradisyonal na SiO₂/Si istraktura sa MOSFET, kaya ito ay isang advanced na materyal na ginagamit sa microelectronic field.Malawak din itong ginagamit para sa paggawa ng hafnium metal, hafnium compound, refractory material, anti-radioactive coating material, at catalyst.